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在热处理产业（如 气体氮化、氮碳共渗、保护气氛退火、真空氢气保护炉等）中，氢是常见的气体组分之一，它影响炉内气氛的还原性、热传递效率、材料表面状态及氢脆风险等。因此不少高端控制系统采用可以监测 氢含量 / 氢分压 的传感器来辅助精细控制炉内气氛。氢与氧反应可以有效减少氧化，改善工件表面质量；氢的量对工艺参数（如氮化氮势 Kn 值）有直接影响；氢含量变化会影响热传导速度与炉内还原性。常用的工业气氛监测方案会结合氧传感器 + 氢传感器/分析仪，形成对炉内气氛的综合监控。
用途：将炉内气氛中的氢分压信息实时反馈给控制系统。
氢气测量范围：0.5% ～ 100% H₂（体积浓度）在 1 atm 条件下。
测量精度：±0.5% 绝对误差（0.5% ～ 10% H₂）；±1.2% 绝对误差（10% ～ 100% H₂） 。
线性度与重复性：在测量区间内线性与重复性亦在 ±0.2% ～ ±0.4% 级别。
响应时间：T90 约 90 秒（在推荐流量条件下）。
输出与接口：模拟输出：标准4-20 mA；数字通讯：RS422串口输出（可用于 Modbus 等协议传输）。
报警输出：多路继电器触点输出（配置可用）。
工作温度：750°C ～ 950°C（过程/环境）。
工艺与气体适应：可在含有 CO₂、H₂O、N₂、CO、H₂S、轻烃 等复杂背景气中稳定测量 H₂。
推荐定期校验：约12个月进行一次带标气验证。
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