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宽禁带半导体:氮化镓(GaN)单晶自支撑衬底片

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  • 发布日期:2025-03-27
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厦门中芯晶研半导体有限公司

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详细参数
品牌 中芯晶研 规格型号 完善
编号 齐全 计量单位 1
付款方式 面议 参考价格 \u9762\u8bae
价格单位 人民币 供货量 不限
说明书,报价手册及驱动 暂无相关下载 其他资料下载 暂无相关下载
产地 福建厦门 发货地 福建厦门

产品详情

产品参数
品牌中芯晶研
批号最新
封装单片包装
包装盒装
晶体结构纤锌矿晶体结构
带隙3.4eV
有效面积>90
总厚度变化≤15um
弯曲度≤20um
抛光正面:外延级抛光;背面:精磨
数量10
可售卖地区全国
可售卖地全国
型号N型,半绝缘型

氮化镓(GaN)是二十世纪九十年代以来常用于发光二极管的二元III / V族直接带隙半导体。该化合物是一种非常坚硬的材料,具有纤锌矿晶体结构。其3.4 eV的宽带隙为光电,高功率和高频器件的应用提供了特殊的性能。可供氢化物气相外延(HVPE)技术生长导电型与半绝缘型氮化镓单晶衬底晶片,晶片参数大致如下:
1. 氮化镓晶片规格参数



2. 氮化镓衬底的应用场景
1)GaN衬底可制备发光二极管(LED)与紫外激光二极管(LD);
2)它对电离辐射的敏感性很低(与其他III族氮化物一样),使其成为卫星太阳能电池阵列的合适材料。
3)由于设备在辐射环境中表现出稳定性,因此太空应用也可能受益。
4)由于GaN晶体管可以在更高的温度下工作,并且工作电压比砷化镓(GaAs)晶体管高得多,因此它们可以在微波频率下制造理想的功率放大器。

更多GaN单晶衬底产品信息或疑问请邮件咨询:vp@honestgroup.cn






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