产品详情
| 产品参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 仕研 | ||
| 加工定制 | 否 | ||
| 外形尺寸 | 1600*1700*2900 | ||
| 产品规格 | 1400*530*50 | ||
| 产地 | 安徽 | ||
| 可售卖地 | 全国 | ||
| 材质 | 铸铁 | ||
| 类型 | 抛光研磨 | ||
| 型号 | 20B-5P | ||
工厂转让仕研 品牌 20B双面抛光机 研磨机
产品优点：
1、变频器配合变频电机拖动，实现了软启动，软停止，调速稳定，冲击小；
2、采用双电机拖动，上、下研磨盘及内齿圈由一个主电机驱动，变频调速。太阳轮由一个副电机变频调速拖动，变速范围更广，可以对工作速比进行即时控制，能适应不同研磨工艺的要求；
3、太阳轮与内齿圈同步抬升，满足了取放工件及调整游轮啮合位置的要求；
4、上下研磨盘采用斜齿轮传动，提高了运转平稳性；
5、采用PLC控制，压力采用电——气比例阀闭环反馈控制，压力等级设定更方便，操作简单易行，工作可靠稳定；
6、本机应用人机界面（PT）显示与PLC控制，一方面显示运行参数，另一方面通过其触摸健调整设定各项工艺参数，主操作由普通健钮完成；
7、造型及内部结构充分考虑了操作和维修的方便性。
8.双面研磨机/双面抛光机适用范围
蓝宝石基片、光学光电子材料、触屏玻璃、盖板玻璃、硅片、陶瓷片等非金属的双面研磨抛光.不锈钢.铝合金，钼片等金属材质双面研磨抛光。
技术参数：
1. 研磨盘规格：φ1136×φ354×50mm
2. 研磨直径：φ350mm
3. 游轮参数：英制DP12 Z=200
4. 最小研磨厚度：0.3mm
5. 研磨厚度：30mm
6. 主电机：11kw
7. 太阳轮拖动电机：1.5kw
8. 下研磨盘转速： 0-50rpm
9. 抬升电机：0.75kw
10. 砂泵电机：0.37kw
11.气源：0.6-0.7Mpa
12. 外形尺寸：2400×1500×2700mm
13.质量：约4500kg
加工能力:
1、单片承片量：17片/φ75mm 8片/φ100mm 5片/φ125mm
2、游星片数量：5个V
抛光机的工作原理是：抛光台上表面装有抛光垫并旋转，硅片夹持在抛光头承载器中碎抛光头承载器的运动压紧到抛光垫上并旋转和摆动。同时向抛光垫与硅片接触的区域浇注抛光液，抛光液中的化学溶液将硅片表面层腐蚀成松软的物质，同时抛光液中的氧化铝等磨料作为研磨剂，利用抛光垫与硅片之间摩擦作用去除硅片表面的腐蚀层，这样在不断的化学腐蚀和机械去除的综合作用下，不断将硅片表面的细微去除，从而达到抛光效果：
抛光垫修整器是安装有毛刷或端面金刚石磨轮的机构，通过旋转、向下加压并摆动，来清理抛光垫表面沉积物或修整抛光垫表面，以维持抛光垫的去除率，在专栏文章《六维度拆解安集科技：抛光液打破美日垄断，携手鼎龙股份自主可控》一文中笔者对抛光液、抛光垫及抛光垫修整器及行业规模、竞争格局等做了相应的介绍。
在实际工作中抛光机有多片单面抛光机和多片双面抛光机两种。由于化学机械抛光工艺加工效率较低、加工成本较高，在实际作业中通常直径小于200mm的硅片通常是在研磨片的基础上对硅片一面进行抛光，在制造工艺上一般采用多片单面抛光机加工，即在一个抛光台上采用多抛光头同时抛光，以提高抛光效率、降低抛光成本：
200/300mm的硅片采用多片双面抛光工艺，双面抛光机是在双面研磨剂的基础上，在上、下抛光盘上装有抛光垫，增加抛光液供给/回收装置，可同时进行多片抛光：
值得注意的是由于后道工艺对300mm硅片加工后的面型精度要求增高，设备体积增大，所以设备制造精度和控制精度相对更高。为了减小硅片装载、卸载时操作中容易碎片的风险，一些300mm双面抛光机还集成了硅片自动装载/卸载单元装置:
