产品详情
京迈研厂家直销 科研实验专用 高纯铜靶材颗粒Cu靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
纯度 99.999%
产品介绍
铜是人类最早使用的金属之一，它是一种过渡元素，延展性好，导热性和导电性高，因此在电缆和电气、电子元件是最常用的材料，也可用作建筑材料，可以组成众多种合金。铜的活动性较弱，铁单质与硫酸铜反应可以置换出铜单质。铜单质不溶于非氧化性酸。
铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性。
铜靶材用途
适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料
产品参数
中文名 铜 分子量 63.546 原子序数 29 熔点（°C） 1357.77K(1083.4℃)
密度 8.960（固态）8.920（熔融液态） 沸 点 单质2835K（2562℃） 原子半径 145pm 莫氏硬度 3
高纯溅射靶材（规格按要求定做）
高纯金属溅射靶材
铝靶Al、铬靶Cr、铜靶Cu、铁靶Fe、锌靶Zn、锡靶Sn、镁靶Mg、钴靶Co、镍靶Ni、钛靶Ti、金靶Au、银靶Ag、铂靶Pt、铼靶Re、钌靶Ru、钯靶Pd、铑靶Rh、铱靶Ir、铟靶In、钒靶V、镉靶Cd、钨靶W、钼靶Mo、钽靶Ta、铌靶Nb、锆靶Zr、铪靶Hf、锗靶Ge、硅靶Si、锰靶Mn、铋靶Bi、硒靶Se、硼靶B、钙靶Ca
合金溅射靶材 （规格按要求定做）
钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe
陶瓷靶材 （规格按要求定做）
ITO靶材、AZO靶材、IGZO靶材、氧化镁靶材MgO、氧化钇靶材Y2O3、氧化铁靶材Fe2O3、氧化镍靶材Ni2O3、氧化铬靶材Cr2O3、氧化锌靶材ZnO、硫化锌靶材ZnS、硫化镉靶材CdS、硫化钼靶材MoS2、二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化锆靶材ZrO2、五氧化二铌靶材Nb2O5、二氧化钛靶材TiO2、二氧化铪靶材HfO2、二硼化钛靶材TiB2、二硼化锆靶材ZrB2、三氧化钨靶材WO3、三氧化二铝靶材Al2O3、五氧化二钽靶材Ta2O5、氟化镁靶材MgF2、硒化锌靶材ZnSe、氮化铝靶材AlN、氮化硅靶材Si3N4、氮化硼靶材BN、氮化钛靶材TiN、碳化硅靶材SiC、铌酸锂靶材LiNbO3、钛酸镨靶材PrTiO3、钛酸钡靶材BaTiO3、钛酸镧靶材LaTiO3、钛酸锶靶材SrTiO3等高密度陶瓷溅射靶材.
稀土靶材
钆靶Gd、钐靶Sm、碲靶Te、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La、锑靶Sb、镱靶Yb、铒靶Er、铽靶Tb、钬靶Ho、铥靶Tm、钕靶Nd、镨靶Pr、镥靶Lu
稀土陶瓷靶
氧化镧靶La2O3、氧化铈靶CeO2、氧化镨靶Pr6O11、氧化钕Nd2O3、氧化钐靶Sm2O3、氧化钕靶Nd2O3、氧化铒Er2O3靶、氧化铥靶Tm2O3、氧化钬靶Ho2O3、氧化铕靶Eu2O3等稀土陶瓷靶材
