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光学薄膜是改变光学零件表面特征而镀在光学零件表面上的一层或多层膜. 可以是金属膜、介质膜或这两类膜的组合. 光学薄膜是各种先进光电技术中不可缺少的一部分, 它不仅能改善系统性能, 而且是满足设计目标的必要手段, 光学薄膜的应用领域设及光学系统的各个方面.它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用, 获得了科学技术工作者的日益重视.
光学镀膜机适合镀制多种光学膜. 如望远镜、眼镜片、光学镜头、冷光杯等, 配置不同的蒸发源及膜厚仪, 可镀制多种膜系, 对金属、氧化物、化合物及其他高熔点膜材皆可蒸镀, 并可在玻璃表面镀超硬膜.
伯东KRI 考夫曼霍尔离子源用于光学镀膜机
在光学镀膜中, 为了提高折射率（填充密度）、减少波长漂移、减少红外波段的水气吸收、增强了膜层的结合力、耐摩擦能力、机械强度、提高表面光洁度、控制膜层的应力、减少膜层的吸收和散射、提高生产效率, 镀膜厂商会把离子源用于光学镀膜机上.
离子源类型虽多, 目的却无非在线清洗, 改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量. 离子源可以大大改善膜与基体的结合强度, 同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善.
某厂商为了提供镀膜的质量和提高生产效率, 需要在镀膜机上搭配离子源, 通过沟通了解到客户的要求及使用环境, 伯东工程师为客户推荐KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F, 并帮忙客户把离子源安装在1400 mm 蒸镀镀膜机, 应用于塑料光学镀膜.
常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号：
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蒸镀机台尺寸 |
KRI 离子源 |
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~1100mm |
eH1010 |
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1100~1400mm |
eH1010, eH1020 |
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1400~1900mm |
eH1020, eH3000 |
伯东KRI 考夫曼霍尔离子源优势：
1.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
2.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
3.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷
4.高效的等离子转换和稳定的功率控制
5.KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计, 提供使用者在操作上更是便利.
6.KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性.
KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:
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Filament Controller |
Discharge controller |
Gas controller |
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17.2A/ 22V |
150V/ 4.85A |
Ar/ 32sccm |
利用 KRI 考夫曼霍尔离子源辅助镀膜及无离子源辅助镀膜对镀膜质量之比较：
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KRI EH1020 辅助镀膜 |
无 Ion Source 辅助镀膜 |
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盐水煮沸脱膜测试 |
优 |
劣 |
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破坏性百格脱膜测试 |
优 |
劣 |
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光学折射设率 |
高 |
低 |
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膜层致密性 |
优 |
劣 |
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膜层光学吸收率 |
无 |
有 |
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制程腔体加热温度 |
低 |
高 |
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生产成本 |
低 |
高 |
伯东公司主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源（离子枪）
