产品详情
氮化物靶材Nitride Sputtering Targets：
氮化铝AlN;氮化铝钪AlScN, AlxSc(1-x)N;氮化钪ScN; 碲化氮化钆GdN； 氮化硼BN;氮化铬CrN;氮化铪HfN;氮化铌NbN;氮化硅Si3N4;氮化钽TaN;氮碳化钛TiCN;氮化钛TiN;氮化钒VN;氮化锆ZrN;氮化铝钛AlTiN
碳化物靶材Carbide Sputtering Targets：
碳化铝Al4C3;碳化硼B4C;碳化铬Cr3C2;碳化铪HfC;碳化镧LaC2;碳化钼Mo2C;碳化铌NbC;碳化镍Ni3C；碳化硅SiC;碳化钽TaC;碳化钛TiC;碳化钒VC;碳化钨WC;碳化锆ZrC；
硅化物靶材Silicide Sputtering Targets ：
二硅化钴CoSi2;二硅化铬CrSi2;二硅化铪HfSi2;二硅化钼MoSi2;二硅化铌NbSi2;二硅化镍NiSi2;二硅化钽TaSi2;二硅化钛TiSi2;二硅化钒VSi2;二硅化钨WSi2;二硅化锆ZrSi2；
产品规格，纯度可按客户要求定制
