产品详情
供应:S136 S136 S136
联系人:小吴13773117075
S136详细介绍:
产品名称：S136耐磨耐腐蚀模具钢
产地品牌：瑞典一胜百 ASSAB
出厂状态：约退火至 HB235
特性及适用范围
经炉外精炼（VD）+电渣重熔精炼（ESR）,组织更纯洁细微，优良的耐蚀性、抛光性，良好的耐磨性、机械加工性，淬硬时优良的尺寸稳定性。
S136国家对比
瑞典S136=SKS538日本
瑞典S136=AISI美国420
瑞典S136=DIN德国1.2083
瑞典S136=BOHLER奥地利M310
S136用途
高抛光度及高要求的内模件，高耐蚀的塑料模具，生产、医疗、食品工业等产品。
S136能使用与所有的模具，由于其特殊的性质，更适合特殊环境的需求
ASSAB S136优点
较低的维护费用：
模具经过长期使用后，模穴表面仍然维持原先的光滑状态。模具在潮湿的环境下操作或储存时，不需要特别的保护。
耐腐蚀、耐应变：
对使用有腐蚀性的PVC醋酸盐类（ACETATES0）等注塑原料或模具必须在潮湿的环境下工作及储存时，S136能抵抗水蒸气、弱有机酸、硝酸盐、碳酸盐等的腐蚀作用，经由S136制成的模具，若在潮湿的环境中操作，或在正常状态下使用腐蚀性的塑胶材料，均不会生锈而被污染。若回火至250℃而且抛光成镜面状态时，特别能显示优良的耐腐蚀性。
耐磨性：
使用磨擦较大的注塑材料（包含射出成型模）或要求模具有较长的工作时间，如电子零件、舍弃式的餐刀具、器皿等。
高光洁度的表面：
生产光学产品，如照相机、太阳镜、化学仪器、注射器、分析仪器及塑胶制品等。模具不因冷却水的影响而腐蚀，由于有一定的冷却循环，可增加模具寿命。上列的好处，结合S136的高耐蚀性，提供了低维护费用和高寿命的模具，达到最佳的经济效益。同时S136经过电渣重熔（ESR）精炼，具备纯净而细微的组织，使模具具有很好的综合机械性能，高的抛光性能。
研磨
正确的研磨技术，能避免产生裂缝，且能增加工具的寿命。如果材料在低温回火状态下研磨，则在研磨期间变得很敏感，只有柔软的且开放晶粒式的砂轮才能使用，同时必须有良好的冷却剂。
抛光
S136在淬硬及回火后的状态下，具有非常优良的抛光性
1使用粒度180—320的砂轮或磨石做初步研磨。
2使用粒度400—800的砂纸或粉末研磨。
3 使用粒度12.6及3μm的钻石膏，和抛光用的纤维垫。
光蚀刻花
S136有非常均匀地组织，所含的杂质非常少，很适合光蚀刻花。
S136化学成份：
碳 C ：3.80
硅 Si：0.80
锰 Mn：0.50
硫 S ：≤0.030
磷 P ：≤0.035
铬 Cr：13.60
联系人:小吴13773117075
S136详细介绍:
产品名称：S136耐磨耐腐蚀模具钢
产地品牌：瑞典一胜百 ASSAB
出厂状态：约退火至 HB235
特性及适用范围
经炉外精炼（VD）+电渣重熔精炼（ESR）,组织更纯洁细微，优良的耐蚀性、抛光性，良好的耐磨性、机械加工性，淬硬时优良的尺寸稳定性。
S136国家对比
瑞典S136=SKS538日本
瑞典S136=AISI美国420
瑞典S136=DIN德国1.2083
瑞典S136=BOHLER奥地利M310
S136用途
高抛光度及高要求的内模件，高耐蚀的塑料模具，生产、医疗、食品工业等产品。
S136能使用与所有的模具，由于其特殊的性质，更适合特殊环境的需求
ASSAB S136优点
较低的维护费用：
模具经过长期使用后，模穴表面仍然维持原先的光滑状态。模具在潮湿的环境下操作或储存时，不需要特别的保护。
耐腐蚀、耐应变：
对使用有腐蚀性的PVC醋酸盐类（ACETATES0）等注塑原料或模具必须在潮湿的环境下工作及储存时，S136能抵抗水蒸气、弱有机酸、硝酸盐、碳酸盐等的腐蚀作用，经由S136制成的模具，若在潮湿的环境中操作，或在正常状态下使用腐蚀性的塑胶材料，均不会生锈而被污染。若回火至250℃而且抛光成镜面状态时，特别能显示优良的耐腐蚀性。
耐磨性：
使用磨擦较大的注塑材料（包含射出成型模）或要求模具有较长的工作时间，如电子零件、舍弃式的餐刀具、器皿等。
高光洁度的表面：
生产光学产品，如照相机、太阳镜、化学仪器、注射器、分析仪器及塑胶制品等。模具不因冷却水的影响而腐蚀，由于有一定的冷却循环，可增加模具寿命。上列的好处，结合S136的高耐蚀性，提供了低维护费用和高寿命的模具，达到最佳的经济效益。同时S136经过电渣重熔（ESR）精炼，具备纯净而细微的组织，使模具具有很好的综合机械性能，高的抛光性能。
研磨
正确的研磨技术，能避免产生裂缝，且能增加工具的寿命。如果材料在低温回火状态下研磨，则在研磨期间变得很敏感，只有柔软的且开放晶粒式的砂轮才能使用，同时必须有良好的冷却剂。
抛光
S136在淬硬及回火后的状态下，具有非常优良的抛光性
1使用粒度180—320的砂轮或磨石做初步研磨。
2使用粒度400—800的砂纸或粉末研磨。
3 使用粒度12.6及3μm的钻石膏，和抛光用的纤维垫。
光蚀刻花
S136有非常均匀地组织，所含的杂质非常少，很适合光蚀刻花。
S136化学成份：
碳 C ：3.80
硅 Si：0.80
锰 Mn：0.50
硫 S ：≤0.030
磷 P ：≤0.035
铬 Cr：13.60
