产品详情
迈浦特超高温加热系统是一款为光刻胶原料提纯工艺开发的高温油循环温控机组。光刻胶的原料——包括高纯度单体和成膜树脂——必须经过精馏、脱挥和聚合等工序，才能达到半导体级别要求的超高纯度。其中，高沸点单体（沸点>300℃）的精馏和脱挥工序，需要加热系统在特定温度区间（通常为150~350℃）内提供稳定且均匀的热量。
设备的核心工作原理是：电加热元件将导热油迅速加热至设定温度，由高温循环泵将热媒油强制输送至精馏塔塔釜、脱挥塔夹套或反应釜盘管中，形成完全密闭的闭环循环，从而为光刻胶原料提供稳定热源。这使得设备能够在低压或常压环境中加热目标物料，实现高沸点杂质分离、残留单体蒸发回收以及热敏性原料的温和干燥。
应用场景
迈浦特超高温加热系统深刻解决半导体电子化学品高纯化的三大核心环节：
1. 光刻胶单体高沸点精馏提纯（应用：高端ArF、KrF及I线光刻胶单体）
面向高端高附加值光刻胶单体的精馏提纯阶段，利用设备高达350℃的工作性能，为蒸馏塔或分子蒸馏器提供精准热能。被广泛用于分离沸点差距小且高沸点的单体混合体系，在电子级真空蒸馏工况下，能够严格控制热敏单体长时间受热时因过热导致的自发聚合与裂解，是高纯单体制备环节的关键控温装备。
配合精密控制手段（可将温场波动控制在土0.1℃以内），可实现大跨度的温度精确调控，确保产品满足极低金属离子（PPT级）含量和极低的杂质残留（99.99%以上纯度），直接改善光刻胶最终使用性能。
2. 光刻胶成膜树脂的合成与脱挥控温（应用：聚羟基苯乙烯及丙烯酸酯基类树脂）
利用超高温导热油炉提供的均一热场，完成光刻胶用成膜树脂（如聚对羟基苯乙烯、丙烯酸酯共聚物）的自由基聚合、溶液聚合等过程，通过精准的温度管理实现性能高度一致的目标转化率。针对聚合完成的胶液再进行高温高真空脱挥处理：有效去除溶剂和低分子副产物，降低光刻胶生产批次中的金属离子及微细颗粒污染，将固体树脂杂质含量降至满足半导体工艺严苛标准的限度。设备可以防止温度冲高造成树脂分子量的宽分布，影响后期涂布光刻胶的品质。
3. 洁净车间的反应釜与配套设备控温
作为主反应釜及配套冷凝器的外部热源，该导热油炉既可承担单反应釜的热量供给工作，也能无缝衔接多台设备的工艺作业。全封闭循环结构、316L不锈钢管路，降低了因管路泄露和内部生锈等原因为昂贵电子化学品成本代来的纯度风险；支持连续不间断安全运行的要求，可完全适配洁净车间自动化的排产节拍。
