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微机电制作技术,尤其是最大宗以硅半导体为日本HD半导体加工谐波CSG-20-80-2UH基础的微细加工技术(silicon-basedmicromachining),原本就肇源于半导体组件的制程技术,所以必须先介绍清楚这类制程,以免沦于夏虫语冰的窘态。
一、 洁净室
一般的机械加工是不需要洁净室(cleanroom)的,因为加工分辨日本HD半导体加工谐波CSG-20-80-2UH率在数十微米以上,远比日常环境的微尘颗粒为大。但进入半导体组件或微细加工的世界,空间单位都是以微米计算,因此微尘颗粒沾附在制作半导体组件的晶圆上,便有可能影响到其上精密导线布局的样式,造成电性短路或断路的严重后果。 为此日本HD半导体加工谐波CSG-20-80-2UH,所有半导体制程设备,都必须安置在隔绝粉尘进入的密闭空间中,这就是洁净室的来由



