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等离子清洗机 小型生产机 NANO 德国原装进口 DIENER
清洗： 工艺部件的表面通过离子束的物理轰击而被清洗，也可与特定气体发生化学反应从而被清洗，清洗掉的工艺污染物转化为气相被排出。
如：去除有机污染物，去除纳米级微粒，去除氧化层。
活化：工艺部件表面通过氧气或空气处理后，会在表面形成氧原子团，这样能使部件表面亲水性和表面张力提高，能使涂料和粘接剂更好的附着于上，提高其的粘合力和附着力。
如：PDMS键合，粘接前的预处理，涂装前的预处理，印刷前的预处理。
蚀刻：工艺部件表面通过特定气体达到精确溅射，表面材料被剥离，转变成气相被排出，溅射后的材料表面积增大并更易湿润，也使材料表面更粗糙化。通过改变工艺参数可使材料表面蚀刻出一定的形状。
如：硅蚀刻，PTFE/PFA/FEP蚀刻，光刻胶去除。
涂层：使工艺部件表面发生等离子聚合反应，前驱单体导入等离子真空腔室后使其电离并沉积至材料表面，随即发生聚合反应，形成聚合物层。
如：疏水层，亲水层，保护/阻隔层，干润滑层，疏油层。
NANO配置可选：主要技术参数：
1. 手动控制
2. *根据工艺要求不同，可设定功率、压强、气体流量等参数
3. 双路工作气体，气体流量通过针型阀流量计控制
4. 反应舱为高硼硅玻璃材质，Φ 240mm、长 400 mm，容积18L
5. 发生器频率100KHz,功率0~500W
6. 运行模式为手动
7. 真空泵的排气能力为14 m3/Hour，原装进口干泵，Kashiyama
8. *配有压力传感器，可根据工艺要求设定压力值
9. 外尺寸：宽 560 mm、高 600-860 mm、深 600 mm
10. 电源电压：单相AC230V 16A
可根据用户工艺选配置，可选择更大腔体
