日本HD离子设备谐波CSF-50-160-2UH​

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100 22112.00元/台
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  • 发布日期:2024-04-16
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上海浜田实业有限公司

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  • 经营模式: 代理商-私营有限责任公司
  • 所在地区:上海 嘉定区
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详细参数
品牌HarmonicDrive型号CSF-50-160-2UH,
类型谐波减速器载荷状态强冲击载荷
传动比级数无级轴的相对位置立式加速器
传动布置形式摆线式加工定制
样品或现货现货齿面硬度硬齿面
布局形式三环式用途减速机
输入转速1450rpm额定功率360kw
输出转速范围50rpm许用扭矩691N.m
使用范围矿产减速比50
产地日本

产品详情

常用的干法等离子体反应器类型包括圆筒式等离子体反应器、平板式反应器、日本HD离子设备谐波CSF-50-160-2UH顺流刻蚀系统、三级平面反应器、离子铣、反应离子刻蚀器、高密度等离子体刻蚀机等。

2.19所示为由平板反应器构成的平板等离子刻蚀机系统日本HD离子设备谐波CSF-50-160-2UH。反应器有两个大小和位置对称的平行金属板,硅片背面朝下放置于接地的阴极上面,RF信号加在反应器的上电极。由于等离子体电势高于地电势,因此这是一种带能离子进行轰击的等离子体刻蚀模式。一个刻蚀系统的能力及控制方法对成功加工硅片非常关键。

早期湿法腐蚀主要用于硅片刻蚀,现在湿法腐蚀的功能大部分被干法刻蚀代替。目前湿法腐蚀主要用于漂去氧化物、去除残留物、表层剥离,以及较大特征尺寸的图形腐蚀。湿法腐蚀设备较为简单,日本HD离子设备谐波CSF-50-160-2UH通常使用一个液体槽,采用浸泡或喷射的方法批量处理硅片。

湿法腐蚀设备的主要控制参数包括溶液浓度、浸泡时间、腐蚀槽的温度、溶液槽的搅动、处理硅片的批次等。


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