产品详情
品名：钛靶
标准：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
生产工艺：锻造
规格：直径100*45、100*40、80*40、72*20(单位:mm)
产品描述：为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
靶材应用:
钛靶
标准：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
生产工艺：锻造
规格：直径100*45、100*40、80*40、72*20(单位:mm)
产品描述：为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
靶材应用:
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
靶材分类:
根据形状可分为：方靶、圆靶、异型靶
钛靶、钛靶块、钛板靶参数：
牌号:
TA1=GR2， TA2=GR2， TA3=GR3， TA4=GR4（工业纯钛）， TA7=GR6（钛-5AL-2.5Sn(锡)）
TC4=GR5（钛-6AL-4v ）, TA9=GR7 钛-0.2Pd(钯), 半TC4=GR9=TA18（钛-3AL-2.5v），
TA8=GR16（钛-0.05pd）， TA10=GR12（钛- 0.3mo-0.8ni）
标准：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
钛圆靶规格：直径100*45、100*40、80*40、72*20(单位:mm)
钛板靶规格：厚度8~20*100~300*500~2000(单位:mm)
钛管靶规格：直径70*7、70*9、76*10(单位:mm)
亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。靶材分类:
根据形状可分为：方靶、圆靶、异型靶
钛靶、钛靶块、钛板靶参数：
牌号:
TA1=GR2， TA2=GR2， TA3=GR3， TA4=GR4（工业纯钛）， TA7=GR6（钛-5AL-2.5Sn(锡)）
TC4=GR5（钛-6AL-4v ）, TA9=GR7 钛-0.2Pd(钯), 半TC4=GR9=TA18（钛-3AL-2.5v），
TA8=GR16（钛-0.05pd）， TA10=GR12（钛- 0.3mo-0.8ni）
标准：ASTM B348，ASTM B381，AMS4928
钛圆靶规格：直径100*45、100*40、80*40、72*20(单位:mm)
钛板靶规格：厚度8~20*100~300*500~2000(单位:mm)
管靶规格：直径70*7、70*9、76*10(单位:mm)
