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学术或研发单位中之电路布局较为简易,harmonic单晶硅谐波传动CSF-17-80-2A-R 一套电路布局可全部写在一片光罩中,或甚至多重复制。加上使用之硅晶圆尺寸较小,配合使用之光罩本来就不大。所以搭配使用之硅晶圆曝光机台为一般的「光罩对准机」(maskaligner,如图2-7)。换言之,一片晶圆只需一次对准曝光harmonic单晶硅谐波传动CSF-17-80-2A-R ,便可进行之后的显影及烤干程序。但在业界中,使用的晶圆大得多,我们不可能任意造出7吋或9吋大小的光罩来进行对准曝光:一来电子束书写机在制备这样大的光罩时,会耗损巨量的时间,极不划算;二来,大面积光罩进行光蚀刻曝光前与晶圆之对准,要因应大harmonic单晶硅谐波传动CSF-17-80-2A-R 面积精密定位及防震等问题,极为棘手!所以工业界多采用步进机(stepper)进行对准曝光



