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IBE300干法刻蚀设备

数量(台) 价格
10 390000.00元/台
  • 最小起订： 1台
  • 发货地址： 四川 成都市
  • 发布日期：2025-12-05
  • 访问量：16
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最新发布

第2年

成都超迈光电科技有限公司

实名认证 企业认证
  • 企业地址：四川省成都市经开区车城西二路288号
  • 营业执照：已审核营业执照
  • 经营模式： 生产加工-其他有限责任公司
  • 所在地区：四川 成都市
  • 家家通积分：265分
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详细参数
品牌超迈光电型号research
类型电解蚀刻机加工定制是
用途半导体蚀刻精度定制
外形尺寸其他产地成都

产品详情

刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。

  1. 设备尺寸：1200*1500*1800mm。
  2. 极限真空：优于≤8.0×10-5Pa。
  3. 样品尺寸：6英寸向下兼容。
  4. 刻蚀类型：物理刻蚀。
  5. 刻蚀气体：Ar、O2。
  6. 刻蚀气体流量：0~100sccm。
  7. 离子源类型：考夫曼直流离子源，角度可调。
  8. 该设备可根据客户需求，定制研发生产，具体联系了解。

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